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紫外臭氧清洗機(jī)的工作流程

更新時(shí)間:2023-03-21       點(diǎn)擊次數(shù):1530
  紫外臭氧清洗機(jī)用于鍵合表面活化等試驗(yàn),樣品臺高度可調(diào),通過調(diào)節(jié)燈與樣品之間的間距,可以合理定位樣品高度和位置,位置可鎖定。
  紫外臭氧清洗機(jī)是通過有機(jī)化合物的光敏氧化作用去除附著在工件表面的有機(jī)物質(zhì),經(jīng)過紫外臭氧清洗機(jī)清洗后的工件表面可達(dá)到原子級清潔度。通過高于絕大多數(shù)有機(jī)物結(jié)合能量的紫外光線,發(fā)出波長為185nm和254nm的紫外線,空氣中的氧分子吸收紫外光后,會產(chǎn)生臭氧,臭氧可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有較強(qiáng)的氧化性,可切斷碳?xì)浠湘I,生成水和二氧化碳等可揮發(fā)氣體,從而去除工件表面的污染物。
  工作條件:
  工作環(huán)境溫度:5-35℃。
  工作環(huán)境濕度:≤70%。
  該設(shè)備在處理ITO,FTO,光學(xué)玻璃,半導(dǎo)體,硅片,金屬,陶瓷,聚合物等基片表面的有機(jī)物,可以提高基片表面附著力或者改善表面親水性,在襯底涂層或者鍍膜,基片鍵合等方面有廣泛應(yīng)用。
  本公司提供的CIF UVO13紫外臭氧清洗機(jī)具有自動補(bǔ)償功能,自動恒定光強(qiáng)光密度,不會因?yàn)榈蛪汗療衾匣鈴?qiáng)衰減影響清洗效果。數(shù)字倒計(jì)時(shí)顯示清洗時(shí)間,1-999分鐘之間可自行設(shè)置清洗時(shí)間。自動記錄之前清洗參數(shù)設(shè)置。可隨時(shí)手動中斷處理過程。

 

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