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勻膠旋涂?jī)x快速啟動(dòng)和穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速，能夠保證膠厚度的一致性和均勻性。主要用于微細(xì)加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設(shè)備配合使用。適用于半導(dǎo)體工藝，制版及表面涂覆等工藝，可在科研、教育等單位作科研...

紫外臭氧清洗機(jī)在工作時(shí)是給臭氧發(fā)生器供電，臭氧發(fā)生器產(chǎn)生臭氧，由臭氧泵通過(guò)臭氧管輸送到洗菜機(jī)的洗滌桶中，在洗滌桶中與水機(jī)接觸，溶解在水中形成臭氧水，臭氧水具有很強(qiáng)的殺菌、消毒，降解農(nóng)藥作用。使用過(guò)后可將產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致，可*清除...

在面對(duì)微波消解完趕酸過(guò)程中經(jīng)常遇到的趕酸時(shí)間長(zhǎng)、酸腐蝕嚴(yán)重存在的問(wèn)題，使用真空趕酸系統(tǒng)可以把原來(lái)的趕酸時(shí)間從原來(lái)的3-4個(gè)小時(shí)縮短到30-40分鐘之間，大大提高趕酸效率，并且通過(guò)堿液吸收，可避免酸氣的腐蝕，杜絕污染。真空趕酸系統(tǒng)采用集成式優(yōu)...

潔凈的樣品前處理容器是獲得可靠分析結(jié)果的前提。痕量分析所使用的微波消解罐、常壓消解罐、玻璃器皿（試管、燒杯、容量瓶等）等的痕量清洗，對(duì)于實(shí)驗(yàn)室人員來(lái)說(shuō)，始終是一個(gè)非常繁瑣而又非常重要的挑戰(zhàn)。使用酸蒸逆流清洗器可以解決這些問(wèn)題。酸蒸逆流清洗器...

紫外臭氧清洗機(jī)在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國(guó)工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。紫外臭氧清洗機(jī)提供一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,...

恒溫電熱板主要用于實(shí)驗(yàn)室和化學(xué)生產(chǎn)中大規(guī)模的加熱、消解、煮沸、烘焙、干燥等溫度實(shí)驗(yàn)，其升溫速度快，溫度準(zhǔn)確，操作面大，表面耐強(qiáng)酸、強(qiáng)堿，是生物、遺傳、醫(yī)藥衛(wèi)生、環(huán)保、生化實(shí)驗(yàn)室、分析室、教學(xué)科研的工具。其材質(zhì)采用鋁合金鑄造加工而成，導(dǎo)熱性好...

勻膠旋涂?jī)x可用于除半導(dǎo)體外,還有硅片、芯片、基片、導(dǎo)電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學(xué)之用高精度涂敷。影響勻膠效果的因素有勻膠速度、勻膠加速度、控制精度等因素。勻膠轉(zhuǎn)速：基片的轉(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關(guān)系到緊挨著基片表...

潔凈的樣品反應(yīng)管是獲得正確分析結(jié)果的前提，傳統(tǒng)的清洗方法是把實(shí)驗(yàn)容器置于酸缸或熱酸中浸泡數(shù)小時(shí)甚至更長(zhǎng)時(shí)間，這種方法效率低、酸消耗量大，為了避免交叉污染，需要定期更換酸，否則將給實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)帶來(lái)巨大的風(fēng)險(xiǎn)。對(duì)于實(shí)驗(yàn)室人員來(lái)說(shuō)，始終是一個(gè)非常繁瑣...